真空誘導炉
真空誘導炉は、真空技術と誘導加熱の原理を組み合わせた高度な溶融システムです。この先進的な装置は、金属を電磁誘導によって溶かし精製するための制御された真空密封環境を作り出します。プロセスは、水冷式銅コイルで囲まれた坩堝に原材料を配置することから始まります。これらのコイルに電流が流れると、強力な電磁場が生成され、それが金属荷重内に渦電流を誘起して抵抗熱を発生させます。通常、10-3トル以下の圧力を維持する真空環境は、大気中の汚染を排除し、溶融金属の酸化を防ぎます。この技術により、1000°Cから3000°Cの範囲で精密な温度管理が可能となり、さまざまな高性能合金や純金属の処理が行えます。炉の設計には、ダブルウォールの水冷システム、自動圧力モニタリング、緊急停止プロトコルなどの複数の安全機能が組み込まれています。現代の真空誘導炉には、温度、圧力、電力入力などのパラメータをリアルタイムで監視・調整できる高度な制御システムが搭載されており、最適な溶融条件を確保し、製品品質の一貫性を実現します。