snel thermisch annealingsoven
Een rapid thermal annealing oven is een geavanceerd halve-geleiderverwerkingsapparaat dat nauwkeurige temperatuurregeling en snel verwarmings- en afkoelingscyclus mogelijk maakt. Dit geavanceerde systeem gebruikt hoge-intensiteitslampen of andere verwarmingsbronnen om de temperatuur van halve-geleiderschijven binnen seconden te verhogen tot zeer hoge niveaus, typisch tussen 400°C en 1200°C. Het proces vindt plaats in een gekontroleerde atmosfeerkamer, waar parameters zoals temperatuur, tijd en gascompositie zorgvuldig worden beheerd. De primaire functie van de oven is het activeren van dopants, herstellen van kristalschade, verdichten van aangebrachte lagen en aanpassen van grensoppervlakken in halve-geleidermaterialen. Wat deze technologie onderscheidt is zijn vermogen om de thermische budgetbeperking te minimaliseren terwijl gewenste materiaalwijzigingen worden bereikt, wat het essentieel maakt voor moderne halve-geleiderproductie. Het systeem bevat geavanceerde temperatuurmeting- en regelsystemen, vaak gebruikmakend van pyrometers of thermocouples, waardoor er een nauwkeurige temperatuuruniformiteit over het schijvengebied wordt gegarandeerd. Toepassingen strekken zich uit tot verder dan traditionele halve-geleiderverwerking en omvatten zonnecelproductie, MEMS-apparaten en onderzoek naar geavanceerde materialen. De mogelijkheid van de rapid thermal annealing oven om verschillende thermische processen uit te voeren, zoals oxidatie, silicidatie en contactvorming, maakt het een onmisbaar instrument in de micro-elektronicafabricage.