forno de anelagem térmica rápida
Um forno de anelação térmica rápida é um equipamento sofisticado de processamento de semicondutores que permite controle preciso de temperatura e ciclos rápidos de aquecimento e resfriamento. Este sistema avançado utiliza lâmpadas de alta intensidade ou outras fontes de calor para elevar rapidamente a temperatura de wafers de semicondutores a níveis extremamente altos, geralmente entre 400°C e 1200°C, em poucos segundos. O processo ocorre em uma câmara com atmosfera controlada, onde parâmetros como temperatura, tempo e composição do gás são meticulosamente gerenciados. A função principal do forno é ativar dopantes, reparar danos cristalinos, densificar filmes depositados e modificar propriedades interficiais em materiais semicondutores. O que diferencia esta tecnologia é sua capacidade de minimizar o orçamento térmico enquanto alcança as modificações desejadas nos materiais, tornando-a essencial para a fabricação moderna de semicondutores. O sistema incorpora sistemas avançados de medição e controle de temperatura, normalmente usando pirômetros ou termopares, garantindo uniformidade precisa de temperatura na superfície do wafer. As aplicações estendem-se além do processamento tradicional de semicondutores para incluir a fabricação de células solares, dispositivos MEMS e pesquisa de materiais avançados. A capacidade do forno de anelagem térmica rápida de realizar vários processos térmicos, como oxidação, silicidação e formação de contatos, faz dele uma ferramenta indispensável na fabricação de microeletrônica.