cuptor de anelaj termic rapid
Un cuptor de anelaj termic rapid este un echipament sofisticat de prelucrare a semiconductoarelor care permite control precis al temperaturii și cicluri rapide de încălzire și răcire. Acest sistem avansat utilizează lămpi de intensitate ridicată sau alte surse de încălzire pentru a ridica temperatura plăcuțelor de semiconductor la niveluri extrem de mari, de obicei între 400°C și 1200°C, în câteva secunde. Procesul are loc într-o cameră cu atmosferă controlată, unde parametri precum temperatura, timpul și compoziția gazei sunt gestionate cu atenție. Funcția principală a cuptorului este activarea dopantilor, repararea daunelor cristaline, compactarea stratelor depuse și modificarea proprietăților interfaciale ale materialelor semiconductoare. Ceea ce distinge această tehnologie este capacitatea sa de a minimiza bugetul termic în timp ce realizează modificări materiale dorite, făcând-o esențială pentru fabricarea modernă de semiconductoare. Sistemul include sisteme avansate de măsurare și control al temperaturii, folosind de obicei pirometre sau termocupluri, asigurând o uniformitate precisă a temperaturii pe suprafața plăcuței. Aplicațiile se extind dincolo de prelucrarea tradițională a semiconductoarelor să includă fabricarea celulelor solare, dispozitivele MEMS și cercetarea materialelor avansate. Capacitatea cuptorului de anelaj termic rapid de a efectua diferite procese termice, cum ar fi oxidarea, silicidarea și formarea contactelor, îl face un instrument indispensabil în fabricarea microelectronicii.