лабораторна вакуумна печ
Лабораторна вакуумна піч представляє собою складний прилад наукового обладнання, призначеного для проведення високотемпературних термічних процесів у керованому, вакуумному середовищі. Ця передова система поєднує точне керування температурою з вакуумною технологією для досягнення виняткових результатів у переробці матеріалів та наукових дослідженнях. Піч працює шляхом вилучення повітря та інших атмосферних газів з грільної камери, створюючи середовище, вільне від оксидування та забруднень. Зазвичай температури експлуатації коливаються в межах від 1000°C до 3000°C, ці пічі мають надійні елементи нагріву, як правило, зроблені з молібдену або вольфраму, що оточені декількома шарами теплових екранів. Вакуумна система зазвичай включає механічні та дифузійні насоси для досягнення високих або сверхвисоких рівнів вакууму, часто досягаючи 10-5 до 10-6 торр. Сучасні лабораторні вакуумні пічі комплектуються програмовими контролерами для точних температурних профілів, моніторингу рівня вакууму та автоматизованих послідовностей операцій. Ці системи знаходять широке застосування у науці про матеріали, металургії, дослідженні кераміки та обробці напівпровідників, дозволяючи проводити ключові процеси, такі як спекання, клеєння, виготовлення та термічна обробка чутливих матеріалів.